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用于场发射器的基片、其制造方法及其应用

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201110077756.2
  • IPC分类号:H01J5/08;H01J9/20
  • 申请日期:
    2011-03-30
  • 申请人:
    西门子公司
著录项信息
专利名称用于场发射器的基片、其制造方法及其应用
申请号CN201110077756.2申请日期2011-03-30
法律状态撤回申报国家中国
公开/公告日2011-10-05公开/公告号CN102208307A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01J5/08IPC分类号H;0;1;J;5;/;0;8;;;H;0;1;J;9;/;2;0查看分类表>
申请人西门子公司申请人地址
德国慕尼黑 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人西门子公司当前权利人西门子公司
发明人海因里希·蔡宁格
代理机构北京市柳沈律师事务所代理人谢强
摘要
本发明涉及一种用于场发射器的基片,该基片的制造方法及该基片的应用,特别是在计算机断层造影上的应用。该基片具有一个带有碳混合结构的涂层,该碳混合结构基于同素异形的石墨、石墨烯和纳米管。本发明涉及基于石墨层状结构的场发射器。通过本发明,首次获得一种用于场发射器的基片,该基片利用了基本上垂直地在该基片上立起并排列的“石墨峰”,以及利用了在导电的基片上的这些峰和在这些峰之间放置的CNTs的混合材料。

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