井下光学成像测量装置

实用新型专利无效专利

申请号：
CN201020173736.6
IPC分类号：E21B47/00;E21B47/06;E21B47/08
申请日期：
2010-04-28
申请人：
陕西致深电子科技有限公司

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著录项信息

专利名称	井下光学成像测量装置
申请号	CN201020173736.6	申请日期	2010-04-28
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	E21B47/00 ? IPC结构图谱： E 固定建筑物 E2 土层或岩石的钻进；采矿 E21 土层或岩石的钻进；采矿 E21B 土层或岩石的钻进（采矿、采石入E21C；开凿立井、掘进平巷或隧洞入E21D）；从井中开采油、气、水、可溶解或可熔化物质或矿物泥浆〔5〕 E21B47/00 测量钻孔或井（钻井液的压力或流量监测入E21B 21/08）〔1，2012.01〕	IPC分类号	E;2;1;B;4;7;/;0;0;;;E;2;1;B;4;7;/;0;6;;;E;2;1;B;4;7;/;0;8查看分类表>
申请人	陕西致深电子科技有限公司	申请人地址	陕西省西安市桃园南路公园天下1-1420 变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	陕西致深电子科技有限公司	当前权利人	陕西致深电子科技有限公司
发明人	郑成栋;王丹
代理机构	西安创知专利事务所	代理人	谭文琰

摘要

本实用新型公开了一种井下光学成像测量装置，包括连接件以及设置在连接件两端的光学成像及参数测量装置和照明及电路处理装置，光学成像及参数测量装置包括水密壳体一以及分别设置在水密壳体一前端内侧和后端的光学玻璃窗一和水密堵头一，光学玻璃窗一后端依次设有CCD及水下光学成像镜头和晶体制冷芯片一，水密堵头一内设有温度传感器和压力传感器；照明及电路处理装置包括水密壳体二以及分别设置在水密壳体二前端内侧和后端的光学玻璃窗二和水密堵头二，光学玻璃窗二后端依次设有光源装置和电路板，水密堵头二内设有水质pH值传感器和晶体制冷芯片二。本实用新型设计合理，适应能力强，成像距离远，能对井下多个物理参数实时监测。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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