加载中...
首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

一种半导体器件及其制备方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200310105615.2
  • IPC分类号:H01L33/00;H01S5/00;H01L21/28
  • 申请日期:
    2003-11-06
  • 申请人:
    厦门三安电子有限公司
著录项信息
专利名称一种半导体器件及其制备方法
申请号CN200310105615.2申请日期2003-11-06
法律状态暂无申报国家中国
公开/公告日2005-05-11公开/公告号CN1614792
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L33/00IPC分类号H;0;1;L;3;3;/;0;0;;;H;0;1;S;5;/;0;0;;;H;0;1;L;2;1;/;2;8查看分类表>
申请人厦门三安电子有限公司申请人地址
福建省厦门市思明区吕岭路1721-1725号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人厦门市三安光电科技有限公司当前权利人厦门市三安光电科技有限公司
发明人何晓光;周春伟;黄尊祥;黄光辉
代理机构厦门原创专利事务所代理人徐东峰
摘要
本发明公布了一种提高半导体器件接触电极表面质量的方法,该方法在芯片制造过程中采用电极上生长一层保护层,在完成金属退火后将保护层去除。这样在电极上有保护层保护,避免了在工艺过程或退火过程中电极被杂质沾污。

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供