加载中...
首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

半导体器件的制造方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200710007231.5
  • IPC分类号:H01L21/8234;H01L21/8238;H01L21/8247
  • 申请日期:
    2007-01-25
  • 申请人:
    株式会社瑞萨科技
著录项信息
专利名称半导体器件的制造方法
申请号CN200710007231.5申请日期2007-01-25
法律状态暂无申报国家中国
公开/公告日2007-09-05公开/公告号CN101030556
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/8234
?
IPC结构图谱:
IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;8;2;3;4;;;H;0;1;L;2;1;/;8;2;3;8;;;H;0;1;L;2;1;/;8;2;4;7查看分类表>
申请人株式会社瑞萨科技申请人地址
日本东京 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人瑞萨电子株式会社,恩益禧电子股份有限公司当前权利人瑞萨电子株式会社,恩益禧电子股份有限公司
发明人谷口泰弘;志波和佳
代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所代理人张浩
摘要
本发明提供了一种半导体器件的制造方法,这种制造方法包括:在半导体衬底之上形成栅极绝缘膜、电荷存储膜、绝缘膜、多晶硅膜、氧化硅膜、氮化硅膜和盖层绝缘膜的膜层叠;通过光刻和蚀刻从低击穿电压MISFET形成区和高击穿电压MISFET形成区中清除所述膜层叠;在所述半导体衬底之上形成栅极绝缘膜、多晶硅膜和盖层绝缘膜,在低击穿电压MISFET形成区和高击穿电压MISFET形成区中形成栅电极,然后在存储器单元形成区中形成栅电极。通过这种在不同的步骤中形成第一MISFET和第二MISFET的栅电极的半导体器件的制造技术,本发明能够提供每个具有改进的可靠性的第一MISFET和第二MISFET。

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供