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成膜速度快的电弧式蒸发源、使用该电弧式蒸发源的皮膜的制造方法及成膜装置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201180027644.4
  • IPC分类号:C23C14/24;C23C14/35
  • 申请日期:
    2011-06-15
  • 申请人:
    株式会社神户制钢所
著录项信息
专利名称成膜速度快的电弧式蒸发源、使用该电弧式蒸发源的皮膜的制造方法及成膜装置
申请号CN201180027644.4申请日期2011-06-15
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2013-02-13公开/公告号CN102933738A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C23C14/24IPC分类号C;2;3;C;1;4;/;2;4;;;C;2;3;C;1;4;/;3;5查看分类表>
申请人株式会社神户制钢所申请人地址
日本兵库县 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人株式会社神户制钢所当前权利人株式会社神户制钢所
发明人谷藤信一;山本兼司;野村誉;黑川好德;后藤直行
代理机构中科专利商标代理有限责任公司代理人雒运朴
摘要
本发明提供一种成膜速度快的电弧式蒸发源。本发明的电弧式蒸发源(1)具备:至少一个外周磁铁(3),其包围标靶(2)的外周,并且被配置成其磁化方向沿着与标靶(2)的表面正交的方向;非环状的第一永磁铁(4A),其配置于标靶(2)的背面侧,具有与所述外周磁铁(3)的极性同方向极性且被配置成其磁化方向沿着与标靶(2)的表面正交的方向;非环状的第二永磁铁(4B),其在与所述第一永磁铁(4A)隔开间隔的状态下,配置于第一永磁铁(4A)与标靶(2)之间、或配置于第一永磁铁(4A)的背面侧,具有与所述外周磁铁(3)的极性同方向的极性并且被配置成其磁化方向沿着与标靶(2)的表面正交的方向;以及磁性体(5),其配置在第一永磁铁(4A)与第二永磁铁(4B)之间。

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