清洁掩模的系统、清洁基板的系统、与清洁方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201510860059.2
IPC分类号：B08B3/02;B08B13/00;G03F1/82
申请日期：
2015-11-30
申请人：
台湾积体电路制造股份有限公司

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法律信息

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著录项信息

专利名称	清洁掩模的系统、清洁基板的系统、与清洁方法
申请号	CN201510860059.2	申请日期	2015-11-30
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2017-02-15	公开/公告号	CN106391542A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	B08B3/02 ? IPC结构图谱： B 作业；运输 B0 分离；混合 B08 清洁 B08B 一般清洁；一般污垢的防除（刷子入A46；家庭或类似清洁装置入A47L；颗粒从液体或气体中分离入B01D；固体分离入B03，B07；一般对表面喷射或涂敷液体或其他流体材料入B05；用于输送机的清洗装置入B65G 45/10；对瓶子同时进行清洗、灌注和封装的入B67C 7/00；一般腐蚀或积垢的防止入C23；街道、永久性道路、海滨或陆地的清洗入E01H；专门用于游泳池或仿海滨浴场浅水池或池子的部件、零件或辅助设备清洁的入E04H 4/16；防止或清除静电荷入H05F） B08B3/00 使用液体或蒸气的清洁方法（B08B 9/00优先） B08B3/02 用喷射力来清洁	IPC分类号	B;0;8;B;3;/;0;2;;;B;0;8;B;1;3;/;0;0;;;G;0;3;F;1;/;8;2查看分类表>
申请人	台湾积体电路制造股份有限公司	申请人地址	中国台湾新竹市变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	台湾积体电路制造股份有限公司	当前权利人	台湾积体电路制造股份有限公司
发明人	沈经纬;吕启纶;林冠文
代理机构	隆天知识产权代理有限公司	代理人	周滨;章侃铱

摘要

本发明涉及一种清洁掩模的系统、清洁基板的系统、与清洁方法，系统包括：托架，设置以支撑掩模且位于掩模的第一侧；声音能量产生器，设置以产生声音能量，其包括超声波的频率与波长的机械振动；以及流体施加器，耦接至声音能量产生器，使流体施加器接收声音能量产生器产生的声音能量，以产生声音搅动的流体流导向掩模的第二侧，其中掩模的第一侧与第二侧对向设置，且其中掩模的第一侧包括图案。

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