一种集成灭弧熔体的激励熔断器

实用新型专利有效专利

申请号：
CN201922254741.3
IPC分类号：H01H85/38;H01H85/165
申请日期：
2019-12-16
申请人：
西安中熔电气股份有限公司

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著录项信息

专利名称	一种集成灭弧熔体的激励熔断器
申请号	CN201922254741.3	申请日期	2019-12-16
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01H85/38 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01H 电开关；继电器；选择器；紧急保护装置（接触电缆入H01B7/10；电解式自断续器入H01G9/18；紧急保护电路装置入H02H；无触点电子开关入H03K17/00） H01H85/00 电流通过其可熔材料的部分，当此电流过大时，由于可熔材料的熔断而使电流中断的保护装置（由可熔材料的熔化而动作的开关入H01H 37/76；在配电盘上熔断器的配置或安装入H02B 1/18） H01H85/02 零部件 H01H85/38 灭弧或消弧装置（用粉状填充料的入H01H 85/18；对可熔件施加机械张力的入H01H 85/36）	IPC分类号	H;0;1;H;8;5;/;3;8;;;H;0;1;H;8;5;/;1;6;5查看分类表>
申请人	西安中熔电气股份有限公司	申请人地址	陕西省西安市高新区锦业路69号创业研发园A区12号现代企业中心东区3-10303室变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	西安中熔电气股份有限公司	当前权利人	西安中熔电气股份有限公司
发明人	段少波;戈西斌;石晓光;王伟;王宁
代理机构	西安乾方知识产权代理事务所（特殊普通合伙）	代理人	胡思棉

摘要

一种集成灭弧熔体的激励熔断器，包括自上而下依次设置的上壳体及下壳体；在上壳体与下壳体间设置有导电板；在所述上壳体开设有开口向下的容置腔，在所述下壳体上开设有开口向上的容置腔；在上壳体容置腔中自上而下依次设置有点火爆炸装置及活塞；在下壳体的容置腔填充有灭弧介质；在下壳体容置腔中设置有用于密封灭弧介质的密封件；所述密封件上开设有开口向上的供导电板断开后掉落的容置腔；熔体穿设在灭弧介质中，且其两端分别穿出下壳体上端面与导电板底部并联连接；所述导电板受到活塞冲击断开后的断开处位于熔体两端与导电板连接处之间。其优点在于受气压和温湿度的影响较小，在各种工况环境下均能可靠分断，分断能力高。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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