一种可防止颗粒产生的光刻机版库

实用新型专利有效专利

申请号：
CN201922396814.2
IPC分类号：G03F7/20
申请日期：
2019-12-27
申请人：
爱特微（张家港）半导体技术有限公司

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著录项信息

专利名称	一种可防止颗粒产生的光刻机版库
申请号	CN201922396814.2	申请日期	2019-12-27
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/20 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕 G03F7/20 曝光及其设备（复制用照相印制设备入G03B 27/00）〔4〕	IPC分类号	G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人	爱特微（张家港）半导体技术有限公司	申请人地址	江苏省苏州市张家港经济技术开发区新丰东路3号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	爱特微（张家港）半导体技术有限公司	当前权利人	爱特微（张家港）半导体技术有限公司
发明人	徐惠懂;王友伟
代理机构	常州佰业腾飞专利代理事务所（普通合伙）	代理人	杨静文

摘要

本实用新型公开了一种可防止颗粒产生的光刻机版库，属于掩模版盒存放机构包括垂直方向平行设置的若干金属支架，相邻两个金属支架相对方向对应设置若干卡子，所述卡子包括上卡子和下卡子，所述上卡子和下卡子之间形成容纳空间，所述容纳空间两侧对应的金属支架区域设有表面光滑的胶带。由于胶带表面光滑，厚度极薄可以忽略不计，大大降低了对掩模版盒的摩擦，有效地防止掩模版盒因摩擦产生颗粒的功能，起到避免沾污掩模版的效果，从而大大降低了光刻工艺生产的返工，节省人力物力。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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该专利没有被任何外部专利所引用！

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