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形成溶液处理器件的方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200580031428.1
  • IPC分类号:H01L29/51;H01L21/314;H01L21/312;H01L21/316
  • 申请日期:
    2005-08-17
  • 申请人:
    惠普开发有限公司
著录项信息
专利名称形成溶液处理器件的方法
申请号CN200580031428.1申请日期2005-08-17
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2007-08-22公开/公告号CN101023529
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L29/51IPC分类号H;0;1;L;2;9;/;5;1;;;H;0;1;L;2;1;/;3;1;4;;;H;0;1;L;2;1;/;3;1;2;;;H;0;1;L;2;1;/;3;1;6查看分类表>
申请人惠普开发有限公司申请人地址
美国德克萨斯州 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人惠普开发有限公司当前权利人惠普开发有限公司
发明人P·马迪洛维奇;R·霍夫曼;G·S·赫尔曼
代理机构中国专利代理(香港)有限公司代理人龚海军;梁永
摘要
一种方法,包括借助于一种或者多种溶液处理工艺,在衬底(102)的至少一部分上沉积(142)第一材料,以形成第一材料层(108),所述第一材料层(108)的至少一部分包括无机介电材料;借助于一种或者多种溶液处理工艺,在所述第一材料层(108)的所述至少一部分上和/或与所述第一材料层(108)的所述至少一部分接触地沉积(146)第二材料,以形成第二材料层(108),所述第二材料层(108)的至少一部分包括有机介电材料,以形成介电器件层的至少一部分;和至少部分地改变所述第一和/或所述第二材料层(108)的至少一部分。

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