基板处理装置

发明专利无效专利

申请号：
CN02127003.1
IPC分类号：--
申请日期：
2002-07-25
申请人：
大日本网目版制造株式会社

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	基板处理装置
申请号	CN02127003.1	申请日期	2002-07-25
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2003-03-05	公开/公告号	CN1400635
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	大日本网目版制造株式会社	申请人地址	日本京都变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	大日本网目版制造株式会社	当前权利人	大日本网目版制造株式会社
发明人	岩田智巳;村冈祐介;齐藤公续;沟端一国雄;三宅孝志;北门龙治
代理机构	北京纪凯知识产权代理有限公司	代理人	龙淳;张英光

摘要

本发明涉及在个别地配置了向通过主运送机构运送的基板提供处理液进行湿式表面处理的湿式处理单元和向通过湿式处理单元进行湿式表面处理的基板表面通过处理流体进行表面处理的高压处理单元的基板处理装置中，防止将基板从湿式处理单元运送到前述高压处理单元期间处理液对主运送机构的浸湿和污染。对于显像处理单元的任一单元，主运送路，显像处理单元，专用运送自动机及高压处理单元按此顺序在Y方向呈直线状配置。在将被处理液浸湿的基板运送到高压处理单元期间，即使基板上附着的处理液或其蒸发物移动到主运送路侧，直到主运送路为止要经过显像处理单元。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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