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一种二氧化钛单晶纳米线阵列薄膜的制备方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201010590301.6
  • IPC分类号:C30B7/10;C30B29/16;C30B29/62
  • 申请日期:
    2010-12-14
  • 申请人:
    桂林理工大学
著录项信息
专利名称一种二氧化钛单晶纳米线阵列薄膜的制备方法
申请号CN201010590301.6申请日期2010-12-14
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2011-06-08公开/公告号CN102086528A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C30B7/10IPC分类号C;3;0;B;7;/;1;0;;;C;3;0;B;2;9;/;1;6;;;C;3;0;B;2;9;/;6;2查看分类表>
申请人桂林理工大学申请人地址
天津华苑产业区华天道8号海泰信息广场F座315室-22 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人天津蕙俐邦环保科技有限公司当前权利人天津蕙俐邦环保科技有限公司
发明人王海;李惠敏
代理机构暂无代理人暂无
摘要
本发明公开了一种二氧化钛单晶纳米线阵列薄膜的制备方法。本发明以分析纯钛酸丁酯、柠檬酸、尿素和去离子水作为起始原料。将上述四种原料的混合物转移到高温反应釜(聚四氟乙烯内衬)内,在恒温干燥箱内在180~230℃下保温20~36小时,自然冷却到室温。所获得薄膜用去离子水或无水乙醇反复清洗多次,然后在干燥箱内在60~80℃下干燥24个小时即制得二氧化钛单晶纳米线阵列薄膜。本发明提供的水热反应条件下制备二氧化钛单晶纳米线阵列薄膜的方法简单可行,结果可重复性好。

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