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掩模布置、在基板上沉积层的设备和对准掩模布置的方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201480084006.X
  • IPC分类号:C23C14/04;C23C16/04;C23C16/458
  • 申请日期:
    2014-12-10
  • 申请人:
    应用材料公司
著录项信息
专利名称掩模布置、在基板上沉积层的设备和对准掩模布置的方法
申请号CN201480084006.X申请日期2014-12-10
法律状态授权申报国家暂无
公开/公告日2017-08-01公开/公告号CN107002219A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C23C14/04IPC分类号C;2;3;C;1;4;/;0;4;;;C;2;3;C;1;6;/;0;4;;;C;2;3;C;1;6;/;4;5;8查看分类表>
申请人应用材料公司申请人地址
美国加利福尼亚州 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人应用材料公司当前权利人应用材料公司
发明人斯蒂芬·班格特;托马索·维尔切斯;丹尼尔·吉斯隆;奥利弗·海默尔;安德烈亚斯·勒普;迪特尔·哈斯
代理机构北京律诚同业知识产权代理有限公司代理人徐金国;赵静
摘要
提供一种用于在处理腔室中掩蔽基板(10)的掩模布置(100)。掩模布置(100)包括:掩模框架(110),所述掩模框架具有一个或多个框架元件(112、114、116、118)并且被配置为支撑掩模器件(120),其中掩模器件(120)可连接到掩模框架(110);以及至少一个致动器(130),所述至少一个致动器可连接到一个或多个框架元件(112、114、116、118)中的至少一个框架元件(112),其中至少一个致动器(130)被配置为向所述至少一个框架元件(112)施加力。

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