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金属二次电池用隔膜

发明专利有效专利

申请号：
CN201580050383.6
IPC分类号：H01M2/16;H01M10/052;H01M10/054;H01M10/0566;H01M10/058;H01M12/08
申请日期：
2015-08-27
申请人：
东京应化工业株式会社;公立大学法人首都大学东京;上达膜化股份有限公司

基础信息

权利要求

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	金属二次电池用隔膜
申请号	CN201580050383.6	申请日期	2015-08-27
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2017-08-18	公开/公告号	CN107078256A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01M2/16 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01M 用于直接转变化学能为电能的方法或装置，例如电池组〔2〕（一般电化学的方法或装置入C25；用于转变光或热为电能的半导体或其他固态器件入H01L，例如H01L 31/00，H01L 35/00，H01L 37/00）〔2〕 H01M2/00 非活性部件的结构零件或制造方法〔2〕 H01M2/14 隔板；薄膜；膜片；间隔元件〔2〕 H01M2/16 按材料区分的〔2〕	IPC分类号	H;0;1;M;2;/;1;6;;;H;0;1;M;1;0;/;0;5;2;;;H;0;1;M;1;0;/;0;5;4;;;H;0;1;M;1;0;/;0;5;6;6;;;H;0;1;M;1;0;/;0;5;8;;;H;0;1;M;1;2;/;0;8查看分类表>
申请人	东京应化工业株式会社;公立大学法人首都大学东京;上达膜化股份有限公司	申请人地址	日本神奈川县变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	东京应化工业株式会社,公立大学法人首都大学东京,上达膜化股份有限公司	当前权利人	东京应化工业株式会社,公立大学法人首都大学东京,上达膜化股份有限公司
发明人	佐合宏仁;金村圣志;栋方裕一;今泽计博
代理机构	北京市金杜律师事务所	代理人	杨宏军

摘要

本发明提供能够使金属二次电池的负极表面的电场均匀从而抑制树枝状晶体产生的隔膜。本发明为金属二次电池用多孔质隔膜，其中，在多孔质聚酰亚胺膜的至少一个主表面的表层形成有聚合物电解质层。优选地，所述聚合物电解质层是由所述多孔质聚酰亚胺膜的至少一个主表面所担载的聚合物电解质材料、及从该主表面起连续的层状区域中的孔隙内所担载的聚合物电解质材料构成的。

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