阵列基板及其制备方法、显示面板和显示装置

发明专利有效专利

申请号：
CN201610007188.1
IPC分类号：G02F1/1368;G02F1/1343;G02F1/1333
申请日期：
2016-01-06
申请人：
京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司

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专利名称	阵列基板及其制备方法、显示面板和显示装置
申请号	CN201610007188.1	申请日期	2016-01-06
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2016-03-23	公开/公告号	CN105425495A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G02F1/1368 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G02 光学 G02F 用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器〔2，4〕 G02F1/00 控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学〔2，4〕 G02F1/01 对强度、相位、偏振或颜色的控制（G02F 1/29、G02F 1/35优先）〔2，7〕 G02F1/13 基于液晶的，例如单位液晶显示单元〔2〕 G02F1/133 构造上的设备；液晶单元的工作；电路装置（用于控制矩阵中液晶元件并且在结构上不与这些元件相连的装置或电路入G09G 3/36）〔3，7〕 G02F1/136 结构上与一半导体层或基片相结合的液晶单元，例如形成集成电路部分的液晶单元（G02F 1/135优先）〔5〕 G02F1/1362 有源矩阵寻址单元〔7〕 G02F1/1368 其中开关元件为三电极装置〔7〕	IPC分类号	G;0;2;F;1;/;1;3;6;8;;;G;0;2;F;1;/;1;3;4;3;;;G;0;2;F;1;/;1;3;3;3查看分类表>
申请人	京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司	申请人地址	北京市朝阳区酒仙桥路10号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	京东方科技集团股份有限公司,北京京东方显示技术有限公司	当前权利人	京东方科技集团股份有限公司,北京京东方显示技术有限公司
发明人	梁魁
代理机构	北京天昊联合知识产权代理有限公司	代理人	柴亮;张天舒

摘要

本发明提供一种阵列基板及其制备方法、显示面板和显示装置。所述阵列基板的制备方法包括：形成栅极、栅极绝缘层、有源层、源漏极层的图形；在所述源漏极层的表面，形成一层透明电极层；通过刻蚀工艺，根据所述源漏极层形成源极和漏极的图形，以及，根据所述透明电极层，形成像素电极的图形；所述像素电极与所述漏极直接接触。上述阵列基板的制备方法，像素电极和TFT结构的漏极直接搭接在一起，不需要在绝缘层中形成过孔，这样一方面省去了一道光刻工序，从而降低物料成本，提高生产效率；另一方面，可以提高产品良率。此外，还可以改善阵列基板表面图形的平整度，避免在后续的取向膜制备工艺中，降低取向不良发生的概率，最终提高显示效果。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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