电镀集控区污水铬泥回收方法发明专利
申请号：CN201811301205.8
LOC分类号:C02F1/52
IPC结构图谱：
- G物理
- G0仪器
- G02光学
- G02B光学元件、系统或仪器（G02F优先；专用于照明装置或系统的光学元件入F21V 1/00至F21V 13/00；测量仪器见G01类的有关小类，例如，光学测距仪入G01C；光学元件、系统或仪器的测试入G01M 11/00；眼镜入G02C；摄影、放映或观看用的装置或设备入G03B；声透镜入G10K 11/30；电子和离子“光学”入H01J；X射线“光学”入H01J，H05G 1/00；结构上与放电管相组合的光学元件入H01J 5/16，H01J 29/89，H01J 37/22；微波“光学”入H01Q；光学元件与电视接收机的组合装置入H04N 5/72；彩色电视系统中的光学系统或装置入H04N 9/00；专门适用于透明或反射区的加热装置入H05B 3/84）〔1，7〕
- G02B6/00光导；包含光导和其他光学元件（如耦合器）的装置的结构零部件〔4，6〕
- G02B6/10光波导式的（G02B 6/02，G02B 6/24优先，用电、磁、电磁或电声装置进行光的控制入G02F 1/00；变换受调制光的调制入G02F 2/00；光学逻辑元件入G02F 3/00；光学模拟/数字变换器入G02F 7/00；使用电光元件的存储器入G11C 11/42；电波导管入H01P；通过光学装置传输信息的入H04B 10/00；多路系统入H04J 14/00）〔4，8〕
- G02B6/12集成光路类型（单晶的制备和加工入C30B；集成电路入H01L 27/00）〔4〕
- G02B6/13以制作方法为特征的集成光路〔6〕
