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缺陷过滤系统及过滤方法和计算机存储介质

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201811063793.6
  • IPC分类号:H01L21/66
  • 申请日期:
    2018-09-12
  • 申请人:
    上海华力微电子有限公司
著录项信息
专利名称缺陷过滤系统及过滤方法和计算机存储介质
申请号CN201811063793.6申请日期2018-09-12
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2018-12-21公开/公告号CN109065468A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/66IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;6;6查看分类表>
申请人上海华力微电子有限公司申请人地址
上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人上海华力微电子有限公司当前权利人上海华力微电子有限公司
发明人汪金凤
代理机构上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)代理人暂无
摘要
本发明提供了一种缺陷过滤系统及过滤方法和计算机存储介质,所述缺陷过滤方法包括获取一晶圆的当前表面上的缺陷;获取所述晶圆的前站缺陷信息;根据所述晶圆的前站缺陷信息对所述晶圆的当前表面上的缺陷进行前站缺陷和/或当站缺陷的分类标记;以及,根据所述标记的结果选取用于缺陷过滤的参数,以根据所述参数自动过滤掉所述晶圆的当前表面上的缺陷中的大部分或全部的所述前站缺陷,进而获得所述晶圆的当前表面上的所述当站缺陷。本发明的技术方案实现了对所述前站缺陷的简捷快速地过滤,以快速地获得所述当站缺陷,同时又节约了设备产能和人力。

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