基于氧化膜状态主动控制的轴承滚子ELID研磨方法

发明专利有效专利

申请号：
CN202010729369.1
IPC分类号：B24B37/005;B24B37/02;B24B37/34
申请日期：
2020-07-27
申请人：
浙江工业大学

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著录项信息

专利名称	基于氧化膜状态主动控制的轴承滚子ELID研磨方法
申请号	CN202010729369.1	申请日期	2020-07-27
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2020-12-11	公开/公告号	CN112059895A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	B24B37/005 ? IPC结构图谱： B 作业；运输 B2 成型 B24 磨削；抛光 B24B 用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F 3/00）；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给 B24B37/00 研磨机床或装置；附件（B24B 3/00优先） B24B37/005 研磨机床或装置的控制装置〔2012.01〕	IPC分类号	B;2;4;B;3;7;/;0;0;5;;;B;2;4;B;3;7;/;0;2;;;B;2;4;B;3;7;/;3;4查看分类表>
申请人	浙江工业大学	申请人地址	浙江省杭州市下城区朝晖六区潮王路18号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	浙江工业大学	当前权利人	浙江工业大学
发明人	吕冰海;周亚峰;邵琦;柯明峰;段世祥
代理机构	杭州斯可睿专利事务所有限公司	代理人	王利强

摘要

一种基于氧化膜状态主动控制的ELID研磨方法，轴承滚子上料完成后上研磨盘下移，对轴承滚子实现稳定加压，同时下研磨盘旋转；轴承滚子研磨切削运动的主运动为滚子与研磨盘工作面的接触线绕滚子轴线的回转运动，用于形成轴承滚子表面；轴承滚子研磨切削运动的进给运动为接触线沿直线沟槽的直线运动，接触线沿直线沟槽的直线进给运动及沿螺旋槽的螺旋运动用于维持研磨盘工作面的面形；在研磨过程中，同时对沟槽进行可控电解，电解电流流经下研磨盘直线沟槽、电解液、上研磨盘形成回路，从而能对连接电源正极的直线沟槽实现电解，使磨粒持续可控露出，实现研磨沟槽在线修锐。本发明保证轴承滚子的加工过程稳定，表面质量高，批一致性好。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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