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纳米粒子层图案化的方法、量子点发光器件及显示装置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201910405886.0
  • IPC分类号:H01L51/56;H01L51/50;H01L27/32
  • 申请日期:
    2019-05-16
  • 申请人:
    京东方科技集团股份有限公司
著录项信息
专利名称纳米粒子层图案化的方法、量子点发光器件及显示装置
申请号CN201910405886.0申请日期2019-05-16
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2019-08-16公开/公告号CN110137387A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L51/56IPC分类号H;0;1;L;5;1;/;5;6;;;H;0;1;L;5;1;/;5;0;;;H;0;1;L;2;7;/;3;2查看分类表>
申请人京东方科技集团股份有限公司申请人地址
北京市朝阳区酒仙桥路10号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人京东方科技集团股份有限公司当前权利人京东方科技集团股份有限公司
发明人张振琦
代理机构北京银龙知识产权代理有限公司代理人刘伟;蔡丽
摘要
本发明涉及显示领域,尤其涉及纳米粒子层图案化的方法、量子点发光器件及显示装置。本发明的纳米粒子层图案化的方法,包括以下步骤:(S1)将第一碱基连接于基板的预设区域的表面,形成修饰有第一碱基的基板;(S2)在所述基板的预设区域内沉积纳米粒子,所述纳米粒子的配体上包含第二碱基,所述第一碱基与第二碱基通过氢键连接,自组装形成纳米粒子层;(S3)去除未参与氢键连接的纳米粒子。本发明不需要采用喷墨打印法或者光刻法即可完成纳米粒子层,特别是量子点层的图案化,能够形成高分辨率、性能良好的纳米粒子层。

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