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金属用研磨液以及研磨方法

发明专利无效专利

申请号：
CN200710104636.0
IPC分类号：C09K3/14;C09K13/00;B24B37/00;H01L21/304;H01L21/306;C23F1/16
申请日期：
2003-06-13
申请人：
日立化成工业株式会社

基础信息

权利要求

说明书

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	金属用研磨液以及研磨方法
申请号	CN200710104636.0	申请日期	2003-06-13
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2007-10-24	公开/公告号	CN101058711
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C09K3/14 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C0 化学 C09 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用 C09K 不包含在其他类目中的各种应用材料；不包含在其他类目中的材料的各种应用 C09K3/00 不包含在其他类目中的材料〔2〕 C09K3/14 防滑材料；研磨材料（含高分子物质的磨料或摩擦体或者成型磨料的制造入C08J 5/14）〔4〕	IPC分类号	C;0;9;K;3;/;1;4;;;C;0;9;K;1;3;/;0;0;;;B;2;4;B;3;7;/;0;0;;;H;0;1;L;2;1;/;3;0;4;;;H;0;1;L;2;1;/;3;0;6;;;C;2;3;F;1;/;1;6查看分类表>
申请人	日立化成工业株式会社	申请人地址	日本东京都变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	日立化成工业株式会社	当前权利人	日立化成工业株式会社
发明人	小野裕;增田克之;羽广昌信
代理机构	北京银龙知识产权代理有限公司	代理人	雒纯丹

摘要

本发明提供了一种金属用研磨液，其含有氧化剂、氧化金属溶解剂、金属防蚀剂以及水，所述金属防蚀剂是具有氨基三唑骨架的化合物和具有咪唑骨架的化合物中的至少一种。通过使用该研磨液，在半导体器件的配线形成工序中，能够在保持低的蚀刻速度的同时，充分提高研磨速度，抑制金属表面的腐蚀和碟陷现象的发生，能够形成可靠性高的金属膜埋入的图案。

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