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一种光学外差法倏逝波腔衰荡光谱分析装置

实用新型专利无效专利
  • 申请号:
    CN200820084729.1
  • IPC分类号:G01N21/39;G01N21/25
  • 申请日期:
    2008-03-31
  • 申请人:
    杭州电子科技大学
著录项信息
专利名称一种光学外差法倏逝波腔衰荡光谱分析装置
申请号CN200820084729.1申请日期2008-03-31
法律状态放弃专利权申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G01N21/39IPC分类号G;0;1;N;2;1;/;3;9;;;G;0;1;N;2;1;/;2;5查看分类表>
申请人杭州电子科技大学申请人地址
浙江省杭州市江干区下沙高教园区2号大街 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人杭州电子科技大学当前权利人杭州电子科技大学
发明人高秀敏;王健
代理机构杭州求是专利事务所有限公司代理人张法高
摘要
本实用新型涉及一种光学外差法倏逝波腔衰荡光谱分析装置。现有技术结构复杂,不能对薄膜、界面、纳米物质等进行测试。本实用新型的探测部件采用对称结构的柱体或半球体,内部形成光反射腔,外表面镀有高反射膜。探测部件光纤耦合准直器与探测部件位置配合。激光光源和分光镜光纤耦合准直器分别设置在分光镜的两侧。光电探测器与分光镜光纤耦合准直器设置在分光镜的工作面的同一侧面,并且设置在分光镜的反射光方向上。探测部件光纤耦合准直器与分光镜光纤耦合准直器通过光纤连接。本实用新型精细腔构成简单,只有一个光学元件,结构简单稳定,对机械定位要求低,并且光谱分析测量对象能够拓展到薄膜、界面、纳米物质、流体。

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