用于原子力显微镜的同轴照明显微镜光学系统

发明专利无效专利

申请号：
CN200410084619.1
IPC分类号：G01N13/16;B81B7/02;B81B5/00
申请日期：
2004-11-26
申请人：
上海爱建纳米科技发展有限公司;中国科学院上海光学精密机械研究所

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专利名称	用于原子力显微镜的同轴照明显微镜光学系统
申请号	CN200410084619.1	申请日期	2004-11-26
法律状态	放弃专利权	申报国家	中国
公开/公告日	2006-05-31	公开/公告号	CN1779436
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G01N13/16 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G01 测量；测试 G01N （除免疫测定法以外包括酶或微生物的测量或试验入C12M，C12Q） G01N13/16 （转入G01Q 60/02，G01Q 60/24）	IPC分类号	G;0;1;N;1;3;/;1;6;;;B;8;1;B;7;/;0;2;;;B;8;1;B;5;/;0;0查看分类表>
申请人	上海爱建纳米科技发展有限公司;中国科学院上海光学精密机械研究所	申请人地址	上海市武定路333号申银发展大厦1号楼1501室变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	上海爱建纳米科技发展有限公司,中国科学院上海光学精密机械研究所	当前权利人	上海爱建纳米科技发展有限公司,中国科学院上海光学精密机械研究所
发明人	吉小明;徐文东
代理机构	上海开祺知识产权代理有限公司	代理人	李兰英

摘要

一种用于原子力显微镜的同轴照明显微镜光学系统，包括同光轴置放的八个成像透镜，以两直角棱镜的两斜平面胶合而成的立方胶合棱镜以及采用科勒照明结构的均匀照明光源。光源聚焦在视场光阑上，视场光阑成像在被探测物上，构成均匀照明。两两透镜胶合成三组双胶合透镜，立方胶合棱镜置放在成像透镜中间，同时又与前后成像透镜以及照明透镜胶合在一起，减少了空气间隙。不仅有利于像差矫正，使像差变小。同时有利于装调，结构紧凑，系统体积小。靠近原子力显微镜探测针尖的第一双胶合透镜可以沿着光轴前后移动，使系统在精调焦时，不影响成像质量。本发明光学系统具有长(大于50mm)工作距离，大(大于0.25)数值孔径，放大倍率5倍以上，成像质量接近衍射极限，畸变小于0.2％的特点。

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