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基板检查装置、涂敷·显影装置和基板检查方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN02827069.X
  • IPC分类号:H01L21/027;G03F7/20
  • 申请日期:
    2002-11-13
  • 申请人:
    东京毅力科创株式会社
著录项信息
专利名称基板检查装置、涂敷·显影装置和基板检查方法
申请号CN02827069.X申请日期2002-11-13
法律状态权利终止申报国家暂无
公开/公告日2005-05-11公开/公告号CN1615539
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/027IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;0;2;7;;;G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人东京毅力科创株式会社申请人地址
日本东京都 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人东京毅力科创株式会社当前权利人东京毅力科创株式会社
发明人田中道夫;清田诚;爱内隆志;上村良一
代理机构中国专利代理(香港)有限公司代理人刘宗杰;叶恺东
摘要
在形成基板的基底膜时,例如在晶片的切割线上预先制成方形的第1检查图形,在制成抗蚀剂图形时从上方看的状态下,制成第2检查图形,使之对第1检查图形呈一直线。如果在包含第1、第2检查图形的区域用光照射,并根据所反射的衍射光制成光谱,则在其中包含第2检查图形的线宽和两检查图形的间距的信息。因此,预先根据各种检查图形,用模拟法制成光谱组,通过与实际的光谱进行比较,选择最近似的光谱,推定上述线宽和间距,进行抗蚀剂图形的评价。

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