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光蚀刻用清洗液及抗蚀图案的形成方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200580042542.4
  • IPC分类号:G03F7/32;H01L21/027
  • 申请日期:
    2005-11-29
  • 申请人:
    东京应化工业株式会社
著录项信息
专利名称光蚀刻用清洗液及抗蚀图案的形成方法
申请号CN200580042542.4申请日期2005-11-29
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2007-11-21公开/公告号CN101076759
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/32IPC分类号G;0;3;F;7;/;3;2;;;H;0;1;L;2;1;/;0;2;7查看分类表>
申请人东京应化工业株式会社申请人地址
日本神奈川县 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人东京应化工业株式会社当前权利人东京应化工业株式会社
发明人泽田佳宏;胁屋和正;越山淳;宫本敦史;田岛秀和
代理机构北京市柳沈律师事务所代理人张平元;赵仁临
摘要
本发明提供一种新颖的光蚀刻用清洗液,该清洗液对抗蚀图案而言,是为了减少制品的表面缺陷的所谓瑕疵、防止水冲洗时的图案破坏的发生、又赋予抗蚀剂对电子射线照射的耐受性、抑制图案的收缩而使用的,且在储存中又不会发生因细菌造成的污染。该光蚀刻用清洗液,包括含有下述通式(式中的R1为可被氧原子中断的碳原子数8~20的烷基或羟烷基;R2及R3为碳数1~5的烷基或羟烷基)所示的含氧化胺化合物的水性溶液。[化学式1]

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