垂直晶体管的制造方法

发明专利无效专利

申请号：
CN200510077947.3
IPC分类号：--
申请日期：
2005-06-15
申请人：
国际商业机器公司

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	垂直晶体管的制造方法
申请号	CN200510077947.3	申请日期	2005-06-15
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2005-12-28	公开/公告号	CN1713396
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	国际商业机器公司	申请人地址	美国纽约变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	国际商业机器公司	当前权利人	国际商业机器公司
发明人	程慷果;拉玛查恩德拉·迪瓦卡鲁尼;奥莱格·格鲁斯切恩科夫
代理机构	中国国际贸易促进委员会专利商标事务所	代理人	王永刚

摘要

本发明提供了一种制作垂直晶体管的结构和方法。本发明的结构包含：其上形成有绝缘层的衬底和形成在其中的沟槽，此沟槽具有通过绝缘层延伸到衬底上表面的上部沟槽区，并具有从上部衬底表面延伸到衬底中的下部沟槽区；形成在上部沟槽侧壁附近的半导体层；形成在半导体层中的上部端子区和下部端子区，其中，沟道区将上部端子区与下部端子区分隔开；从上部端子区延伸到下部端子区并与沟道区接触的栅绝缘体；以及形成在栅绝缘体上的栅导体，此栅绝缘体将栅导体隔离于沟道区。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供