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具有工艺腔室实时监控功能的半导体制造装置

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN201821907817.7
  • IPC分类号:C23C16/44;C23C16/52
  • 申请日期:
    2018-11-16
  • 申请人:
    长鑫存储技术有限公司
著录项信息
专利名称具有工艺腔室实时监控功能的半导体制造装置
申请号CN201821907817.7申请日期2018-11-16
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C23C16/44IPC分类号C;2;3;C;1;6;/;4;4;;;C;2;3;C;1;6;/;5;2查看分类表>
申请人长鑫存储技术有限公司申请人地址
安徽省合肥市经济技术开发区翠微路6号海恒大厦630室 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人长鑫存储技术有限公司当前权利人长鑫存储技术有限公司
发明人不公告
代理机构北京律智知识产权代理有限公司代理人袁礼君;阚梓瑄
摘要
本实用新型提供一种具有工艺腔室实时监控功能的半导体制造装置,包括:工艺腔室,利用供应的工艺气体对晶片进行加工处理;送气管道,与所述工艺腔室相连通,用于送入待进行加工用的所述工艺气体;排气管道,与所述工艺腔室相连通,用于排出进行加工处理后的排出气体;以及干式泵,通过所述排气管道与所述工艺腔室相连接,用于抽吸从所述工艺腔室排出的排出气体,其特征在于,包括:自等离子体发射光谱仪,设置于所述排气管道,利用由等离子体产生的光来分析并监控所述工艺腔室内的加工过程;以及发射光谱仪控制部,与所述自等离子体发射光谱仪进行接口连接,对所述自等离子体发射光谱仪中分散的所述排出气体的光谱进行分析并输出发射光谱数据。

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