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彩膜基板及其制造方法、遮光材料及遮光层的制造方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201810131814.7
  • IPC分类号:G02F1/1335
  • 申请日期:
    2018-02-08
  • 申请人:
    深圳市华星光电技术有限公司
著录项信息
专利名称彩膜基板及其制造方法、遮光材料及遮光层的制造方法
申请号CN201810131814.7申请日期2018-02-08
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2018-08-10公开/公告号CN108388041A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G02F1/1335IPC分类号G;0;2;F;1;/;1;3;3;5查看分类表>
申请人深圳市华星光电技术有限公司申请人地址
广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人TCL华星光电技术有限公司当前权利人TCL华星光电技术有限公司
发明人王海军
代理机构深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙)代理人钟子敏
摘要
本发明公开一种彩膜基板及其制造方法、遮光材料及遮光层的制造方法。所述彩膜基板的制造方法包括:配置含有微球的树脂溶液,微球表面带有第一基团;将添加有微球的树脂溶液混入BM材料;在基板上涂布混有树脂溶液的BM材料,基板表面的第二基团与第一基团发生键合反应,使得微球吸附于基板的表面;对涂布的BM材料进行固化以形成BM图案;在基板上形成色阻图案,且每一BM图案位于相邻两个色阻图案的边缘结合处的下方。基于此,本发明能够有利于降低BM图案表面的反射率。

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