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n多层纳米线为传感器芯片制备的巨磁电阻位移传感器

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201310618729.0
  • IPC分类号:G01B7/02
  • 申请日期:
    2013-11-27
  • 申请人:
    天津大学
著录项信息
专利名称n多层纳米线为传感器芯片制备的巨磁电阻位移传感器
申请号CN201310618729.0申请日期2013-11-27
法律状态撤回申报国家中国
公开/公告日2014-02-26公开/公告号CN103604361A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G01B7/02IPC分类号G;0;1;B;7;/;0;2查看分类表>
申请人天津大学申请人地址
天津市南开区卫津路92号天津大学 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人天津大学当前权利人天津大学
发明人王宏智;张卫国;姚素薇
代理机构天津市北洋有限责任专利代理事务所代理人王丽
摘要
本发明涉及利用[NiFe/Cu/Co/Cu]n多层纳米线为传感器芯片制备的巨磁电阻位移传感器;包括传感器芯片、亥姆霍兹线圈、直流电源、小磁铁、直流数字电压表、直尺;传感器芯片材料是多层纳米线[NiFe/Cu/Co/Cu]n,NiFe层与Cu/Co/Cu层交替排列组成,直径为80~120nm。传感器芯片采用四个完全相同的[NiFe/Cu/Co/Cu]n多层纳米线阵列构成桥式构型。传感器芯片的最佳位置为两个亥姆霍兹线圈轴线的中点,纳米线的轴线方向与磁力线的方向平行。本发明的巨磁电阻位移传感器灵敏度高、功耗小、成本低,可应用在材料的杨氏模量测量、金属热胀系数测量、水面液位检测、磁性材料定位等方面。

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