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高含氟负性光刻胶及其在聚合物光波导器件中的应用

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201010251529.2
  • IPC分类号:G03F7/038;G02B6/136
  • 申请日期:
    2010-08-12
  • 申请人:
    吉林大学
著录项信息
专利名称高含氟负性光刻胶及其在聚合物光波导器件中的应用
申请号CN201010251529.2申请日期2010-08-12
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2010-12-01公开/公告号CN101900941A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/038IPC分类号G;0;3;F;7;/;0;3;8;;;G;0;2;B;6;/;1;3;6查看分类表>
申请人吉林大学申请人地址
吉林省长春市朝阳区前进大街2699号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人吉林大学当前权利人吉林大学
发明人崔占臣;万莹;史作森;费旭
代理机构长春吉大专利代理有限责任公司代理人张景林;刘喜生
摘要
本发明属于聚合物光波导材料与器件技术领域,具体涉及一种可用于制备聚合物光波导器件的高含氟负性光刻胶组合物,其由高含氟环氧树脂、光致产酸物和有机溶剂组成。高含氟环氧树脂为一种或几种结构式如(1)所示的化合物,其中,Rf1和Rf2分别独立地表示全氟化、半氟化或者未氟化的脂族基团,n为5~20的整数,m为0~20的整数。通过改变光致产酸物的种类来调整光刻胶组合物的曝光波长,同时由于在氟化的环氧树脂中,部分氢原子被氟原子取代,在通讯波段吸收较小,因此该光刻胶组合物可以在紫外波长200~400nm的范围内曝光并成像制作聚合物光波导器件。

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