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一种催化剂“种子”法制备准一维掺杂AlN阵列的方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200710010518.3
  • IPC分类号:C04B41/85;B82B3/00;H01L21/205;H01J9/02
  • 申请日期:
    2007-03-01
  • 申请人:
    中国科学院金属研究所
著录项信息
专利名称一种催化剂“种子”法制备准一维掺杂AlN阵列的方法
申请号CN200710010518.3申请日期2007-03-01
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2008-09-03公开/公告号CN101255064
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C04B41/85IPC分类号C;0;4;B;4;1;/;8;5;;;B;8;2;B;3;/;0;0;;;H;0;1;L;2;1;/;2;0;5;;;H;0;1;J;9;/;0;2查看分类表>
申请人中国科学院金属研究所申请人地址
辽宁省沈阳市沈河区文化路72号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国科学院金属研究所当前权利人中国科学院金属研究所
发明人丛洪涛;唐永炳;成会明
代理机构沈阳晨创科技专利代理有限责任公司代理人张致仁
摘要
一种催化剂“种子”法制备准一维掺杂AlN阵列的方法,按0.05-3.0g/ml的浓度,将粒径为1-3um的催化剂颗粒均匀分散在共聚物溶液中,磁力搅拌25-35分钟后形成均匀悬浮乳状液后将其均匀滴在硅片上,等硅片风干后放入退火炉中在400℃-600℃情况下,通H2保温10-30分钟去除残余聚合物,将种有催化剂颗粒的Si片,放入CVD炉中通NH3在800-1100℃情况下,保温20-60分钟,将SiCl4注入炉中,反应结束后大量的花形Si掺杂的AlN纳米针阵列从催化剂上长出。将催化剂‘种子’法和气相掺杂法相结合,通过调控形核位置和择优析出过饱和度等,实现准一维AlN的定位生长(阵列疏密度可控)、垂直于基板的定向生长,实现对准一维AlN晶体结构的同步原位掺杂,有效解决纳米单元在控制、操作和装配上的困难。

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