一种基于光场辐照发光和光电化学性能的Ag和ZnO复合纳米线材料及其制备方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201710606396.8
IPC分类号：C23C16/40;C23C14/18;C23C14/34;C09K11/58;B82Y20/00;B82Y30/00;B82Y40/00
申请日期：
2017-07-24
申请人：
哈尔滨师范大学

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专利名称	一种基于光场辐照发光和光电化学性能的Ag和ZnO复合纳米线材料及其制备方法
申请号	CN201710606396.8	申请日期	2017-07-24
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2018-01-19	公开/公告号	CN107604341A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C16/40 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C16/00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积（CVD）工艺（反应溅射或真空蒸发入C23C 14/00）〔4〕 C23C16/22 以沉积金属材料以外之无机材料为特征的〔4〕 C23C16/30 沉积化合物、混合物或固溶体，例如硼化物、碳化物、氮化物〔4〕 C23C16/40 氧化物〔4〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;6;/;4;0;;;C;2;3;C;1;4;/;1;8;;;C;2;3;C;1;4;/;3;4;;;C;0;9;K;1;1;/;5;8;;;B;8;2;Y;2;0;/;0;0;;;B;8;2;Y;3;0;/;0;0;;;B;8;2;Y;4;0;/;0;0查看分类表>
申请人	哈尔滨师范大学	申请人地址	黑龙江省哈尔滨市利民经济开发区师大路1号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	哈尔滨师范大学	当前权利人	哈尔滨师范大学
发明人	姚成宝;张可心;文杏;孙文军;曹语桐;韩月
代理机构	哈尔滨龙科专利代理有限公司	代理人	高媛

摘要

一种基于光场辐照发光和光电化学性能的Ag和ZnO复合纳米线材料及其制备方法，属于发光和光电化学纳米材料领域。所述方法如下：1、用无水乙醇和去离子水冲洗石英衬底，然后氮气吹干；2、取ZnO置于陶瓷舟中间，陶瓷舟置于CVD管式炉中心部，设置管式炉工作参数，保持40min，得到ZnO纳米线；3、将Ag靶材置于直流溅射靶上，负载有ZnO纳米线的石英衬底置于溅射室旋转底座，设置直流溅射参数，保持30min后，得到Ag和ZnO复合纳米线材料。本发明的优点是：为获得丰富的微纳结构复合材料提供新方法，促进多种方法的结合使用。制备的Ag和ZnO复合纳米线材料具有强的光发射和优异的光电化学性能，这种制备方法提高了一维ZnO基的光发射强度和光电子密度。

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该专利没有引用任何外部专利数据！

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