涂覆、显影装置和基板的背面清洁方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201010200551.4
IPC分类号：G03F7/00;B08B7/04
申请日期：
2010-06-08
申请人：
东京毅力科创株式会社

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	涂覆、显影装置和基板的背面清洁方法
申请号	CN201010200551.4	申请日期	2010-06-08
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2010-12-22	公开/公告号	CN101923286A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/00 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕	IPC分类号	G;0;3;F;7;/;0;0;;;B;0;8;B;7;/;0;4查看分类表>
申请人	东京毅力科创株式会社	申请人地址	日本东京都变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	东京毅力科创株式会社	当前权利人	东京毅力科创株式会社
发明人	德永容一;锦户修一;田中宽周
代理机构	北京尚诚知识产权代理有限公司	代理人	龙淳

摘要

本发明提供一种涂覆、显影装置和基板的背面清洁方法。该涂覆、显影装置在半导体晶片上形成抗蚀剂膜，对曝光后的晶片进行显影，例如通过利用疏水化流体对抗蚀剂膜形成前的晶片进行疏水化处理，晶片的背面的周边部形成疏水化状态。使用清洁液和刷对该晶片的背面进行清洁时，由于刷的磨损造成晶片背面的污染，会在曝光时发生不良。在此，提供一种良好地进行晶片的背面的清洁的方法。在使用旋转卡盘、清洁刷和清洁液喷嘴至少对晶片的周边部进行清洁时，将晶片的转速控制在80rpm以下。其中，旋转卡盘将曝光前的晶片保持水平，使其绕着铅直轴旋转；清洁刷一边自转一边对旋转的晶片的背面进行清洁；清洁液喷嘴在清洁时向晶片的背面供给清洁液。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供