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磁记录介质的制造方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200710005171.3
  • IPC分类号:G11B5/84;G11B5/855
  • 申请日期:
    2007-02-15
  • 申请人:
    TDK股份有限公司
著录项信息
专利名称磁记录介质的制造方法
申请号CN200710005171.3申请日期2007-02-15
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2007-08-29公开/公告号CN101025934
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G11B5/84IPC分类号G;1;1;B;5;/;8;4;;;G;1;1;B;5;/;8;5;5查看分类表>
申请人TDK股份有限公司申请人地址
日本东京都 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人TDK股份有限公司当前权利人TDK股份有限公司
发明人诹访孝裕;岛川和也
代理机构隆天国际知识产权代理有限公司代理人雷志刚
摘要
本发明提供一种磁记录介质的制造方法,能够制造具有凹凸图案的记录层、表面充分平坦、记录/再现特性良好的磁记录介质。在具有在基板之上以规定的凹凸图案形成并形成有记录要素作为凸部的记录层、以及形成在记录层之上的被检测材料的被加工体之上,使填充材料成膜而填充凹部,向被加工体的表面照射加工用气体,来除去记录要素的上表面的上侧的填充材料以及被检测材料,从而将表面平坦化,检测从被加工体被除去而飞散的被检测材料所包含的元素,基于该被检测材料所包含的元素的检测结果而停止加工用气体的照射。作为被检测材料,使用包含Al、Y、Zr、Nb、Rh、Ag、Tb、Ta、Au、Bi、Ti、In、W中任意一个元素的材料。

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