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掩膜板及掩膜板的形成方法

发明专利无效专利

申请号：
CN200710044566.4
IPC分类号：G03F1/00;G03F1/14
申请日期：
2007-07-31
申请人：
中芯国际集成电路制造（上海）有限公司

基础信息

权利要求

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	掩膜板及掩膜板的形成方法
申请号	CN200710044566.4	申请日期	2007-07-31
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2009-02-04	公开/公告号	CN101359167
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F1/00 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F1/00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备〔3，2012.01〕	IPC分类号	G;0;3;F;1;/;0;0;;;G;0;3;F;1;/;1;4查看分类表>
申请人	中芯国际集成电路制造（上海）有限公司	申请人地址	上海市浦东新区张江路18号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	中芯国际集成电路制造（上海）有限公司	当前权利人	中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
发明人	张飞
代理机构	北京集佳知识产权代理有限公司	代理人	逯长明

摘要

本发明公开了一种掩膜板，该掩膜板包括透光基板，所述透光基板上具有至少一个对曝光光线具有遮光性的图形区域，其中，至少一个所述图形区域内的透光基板上设置有相移光栅的开槽，且所述开槽对曝光光线具有透光性。本发明还公开了该掩膜板相应的形成方法，采用本发明的掩膜板，可以提高光刻工艺的分辨率、焦深及图形对比度，加大工艺窗口。

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