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静电吸盘装置中的气体供给结构的制造方法及静电吸盘装置气体供给结构以及静电吸盘装置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200880105961.1
  • IPC分类号:H01L21/683;H02N13/00
  • 申请日期:
    2008-09-03
  • 申请人:
    创意科技股份有限公司
著录项信息
专利名称静电吸盘装置中的气体供给结构的制造方法及静电吸盘装置气体供给结构以及静电吸盘装置
申请号CN200880105961.1申请日期2008-09-03
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2010-08-04公开/公告号CN101796626A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/683IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;6;8;3;;;H;0;2;N;1;3;/;0;0查看分类表>
申请人创意科技股份有限公司申请人地址
日本东京 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人创意科技股份有限公司当前权利人创意科技股份有限公司
发明人宫下欣也;渡边喜裕
代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所代理人王永刚
摘要
本发明提供一种静电吸盘装置、静电吸盘装置气体供给结构以及其制造方法,该静电吸盘装置具备静电吸盘,防止冷却气体喷出量不均匀和喷镀材料等堆积导致污染。该气体供给结构用于将从金属底座的下表面侧供给的冷却气体通过金属底座具备的气体供给通路供给到在上部绝缘层侧吸附的基板的背面。在进行在金属底座的上表面侧喷镀陶瓷粉末而形成下部绝缘层的工序、形成吸附电极的工序、以及形成上部绝缘层的工序之前,用包含由与下部绝缘层的形成中采用的陶瓷粉末相同的材料构成的填充材料的粘接剂封闭金属底座的上表面侧的气体供给通路出口;在形成上部绝缘层后,从上部绝缘层侧向金属底座的气体供给通路出口开孔,形成连通气体供给通路的贯通孔。

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