一种石英摆片镀膜及退膜方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201911359774.2
IPC分类号：C23C14/24;C23C14/18;C23C14/16;C23C14/50;C23F1/26;C23F1/30;G01N21/88;G01R27/02;G01N27/04;G01N3/60
申请日期：
2019-12-25
申请人：
重庆华渝电气集团有限公司

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著录项信息

专利名称	一种石英摆片镀膜及退膜方法
申请号	CN201911359774.2	申请日期	2019-12-25
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2020-03-27	公开/公告号	CN110923635A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C14/24 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C14/00 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆〔4，2006.01〕 C23C14/22 以镀覆工艺为特征的〔4〕 C23C14/24 真空蒸发〔4〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;4;/;2;4;;;C;2;3;C;1;4;/;1;8;;;C;2;3;C;1;4;/;1;6;;;C;2;3;C;1;4;/;5;0;;;C;2;3;F;1;/;2;6;;;C;2;3;F;1;/;3;0;;;G;0;1;N;2;1;/;8;8;;;G;0;1;R;2;7;/;0;2;;;G;0;1;N;2;7;/;0;4;;;G;0;1;N;3;/;6;0查看分类表>
申请人	重庆华渝电气集团有限公司	申请人地址	重庆市渝北区龙山路68号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	重庆华渝电气集团有限公司	当前权利人	重庆华渝电气集团有限公司
发明人	方伟;陈邦力;梁文科;杜恒峰;曹强;林萍
代理机构	重庆博凯知识产权代理有限公司	代理人	孙根

摘要

本发明公开了一种石英摆片镀膜及退膜方法，其中，镀膜方法包括1）在石英摆片正、反面分别安装掩膜；并将石英摆片安装到镀膜安装板内；2）将镀膜安装板安装到真空腔内，并将金丝与铬粉安装在钼舟上；3）对真空腔进行抽真空，进行轰击；4）对真空腔进行加热并再次抽真空，控制蒸发机构，先进行镀铬，然后进行镀金；5）最后，对镀膜后的石英摆片进行检验。退膜方法，包括1）将硝酸铈铵、冰醋酸以及去离子水混合形成混合溶液；2）将石英摆片放入混合溶液中，直至铬膜和金膜完全脱落。本发明能够对石英摆片进行批量镀膜，并且在镀膜达不到要求时能够进行退膜并重新镀膜，从而大大提高成品率，并降低生产成本。

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该专利没有引用任何外部专利数据！

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