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气相法连续生产纳米材料两室立式真空可控气氛炉

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201110369255.1
  • IPC分类号:C01B31/02;C01B31/30;B82Y40/00
  • 申请日期:
    2011-11-10
  • 申请人:
    青岛科技大学
著录项信息
专利名称气相法连续生产纳米材料两室立式真空可控气氛炉
申请号CN201110369255.1申请日期2011-11-10
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2012-06-27公开/公告号CN102515139A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C01B31/02IPC分类号C;0;1;B;3;1;/;0;2;;;C;0;1;B;3;1;/;3;0;;;B;8;2;Y;4;0;/;0;0查看分类表>
申请人青岛科技大学申请人地址
上海市奉贤区海思路999号华东理工大学 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人李孟泽,青岛科技大学当前权利人李孟泽,青岛科技大学
发明人李孟泽;李镇江;王勇
代理机构暂无代理人暂无
摘要
本发明涉及纳米材料合成设备技术领域,是一种可用于气相法连续生产纳米材料的真空可控气氛炉。炉体设计为两室结构,上部为反应室,下部为取料室,从而构成立式结构,两室之间设有保温密封门,可实现取料过程和反应室生产过程的同步进行。采用感应加热装置实现对气体原料的高效加热;采用自动取料装置,实现对产物的自动取料,取料过程不中断反应室的生产过程,实现了连续、高效生产纳米材料的目的。本发明与传统单室炉相比具有加热效率和生产效率高、节约能源的优点。

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