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一种光谱显微成像装置及实现方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202110732122.X
  • IPC分类号:G02B21/36;G01J3/28;G01J3/02
  • 申请日期:
    2021-06-29
  • 申请人:
    杭州电子科技大学
著录项信息
专利名称一种光谱显微成像装置及实现方法
申请号CN202110732122.X申请日期2021-06-29
法律状态公开申报国家暂无
公开/公告日2021-10-29公开/公告号CN113568156A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G02B21/36IPC分类号G;0;2;B;2;1;/;3;6;;;G;0;1;J;3;/;2;8;;;G;0;1;J;3;/;0;2查看分类表>
申请人杭州电子科技大学申请人地址
浙江省杭州市下沙高教园区2号大街 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人杭州电子科技大学当前权利人杭州电子科技大学
发明人颜成钢;柴夏媛;吕彬彬;孙垚棋;张继勇;李宗鹏
代理机构杭州君度专利代理事务所(特殊普通合伙)代理人朱月芬
摘要
本发明公开了一种光谱显微成像装置及实现方法,包括依次设置的照明光源、载物台、显微物镜、视场光阑、闪耀光栅、带通滤波器、4F中继透镜、微透镜阵列、平移台、掩膜和CCD阵列;所述的4F中继透镜共有两组,分别设置在带通滤波器和微透镜阵列之间以及平移台和CCD阵列之间;本发明装置通过光路设计,达到多次曝光并通过算法即可得到清晰样本多路连续光谱通道的目的,可以获得观察样本多维清晰图像信息。去除了其中的一组不必要的4F中继透镜,使得结构更紧凑,光通量更大,像差变好。增加了平移台和掩膜,有效弥补了由于将图像升维之后降采样引起的像素降低问题。

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