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发光单元阵列、其制造方法和投影设备

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201080010263.0
  • IPC分类号:G02B27/18;H01L33/00
  • 申请日期:
    2010-06-22
  • 申请人:
    财团法人工业技术研究院
著录项信息
专利名称发光单元阵列、其制造方法和投影设备
申请号CN201080010263.0申请日期2010-06-22
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2012-02-01公开/公告号CN102341740A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G02B27/18IPC分类号G;0;2;B;2;7;/;1;8;;;H;0;1;L;3;3;/;0;0查看分类表>
申请人财团法人工业技术研究院申请人地址
中国台湾新竹县 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人财团法人工业技术研究院当前权利人财团法人工业技术研究院
发明人叶文勇;赵嘉信;庄育洪;黎家伶;赖俊峰;颜玺轩;戴晟杰;戴光佑;陈泽澎
代理机构北京市柳沈律师事务所代理人陈小雯
摘要
本发明提供一种投影设备(1200)。所述投影设备(1200)包含发光单元阵列(1210)、光学传感器(1230)和控制单元(1220)。发光单元阵列(1210)用于发射投影到屏幕(60)上的图像光束。光学传感器(1230)用于检测来自屏幕(60)和环境(70)中的至少一者的电磁波以便产生信号。控制单元(1220)电耦合到发光单元阵列(1210)和光学传感器(1230),用于根据来自光学传感器(1230)的信号控制发光单元阵列(1210)的发光。本发明还提供一种发光单元阵列(1210)和一种用于制造发光单元阵列(1210)的方法。

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