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像差测量方法、物品制造方法以及曝光装置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202011231381.6
  • IPC分类号:G03F7/20;G01M11/02
  • 申请日期:
    2020-11-06
  • 申请人:
    佳能株式会社
著录项信息
专利名称像差测量方法、物品制造方法以及曝光装置
申请号CN202011231381.6申请日期2020-11-06
法律状态公开申报国家中国
公开/公告日2021-05-11公开/公告号CN112782940A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0;;;G;0;1;M;1;1;/;0;2查看分类表>
申请人佳能株式会社申请人地址
日本东京 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人佳能株式会社当前权利人佳能株式会社
发明人齐藤悠树
代理机构中国贸促会专利商标事务所有限公司代理人程晨
摘要
本公开涉及像差测量方法、物品制造方法以及曝光装置。像差测定方法包括:通过在投影光学系统的光轴方向上的多个位置处测量透射配置于所述投影光学系统的物体侧的物体侧标记、所述投影光学系统以及配置于所述投影光学系统的像侧的像侧标记的光的光量,从而获取表示所述光轴方向上的位置与所述光量的关系的光量分布的工序;求出表示所述光量分布中的以所述投影光学系统的焦点位置为对称轴的非对称性的特征量的工序;以及根据所述特征量来决定所述投影光学系统的像差量的工序。

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