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回流处理单元及基板处理装置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201410352974.6
  • IPC分类号:H01L21/67
  • 申请日期:
    2014-07-23
  • 申请人:
    PSK有限公司;塞米吉尔公司
著录项信息
专利名称回流处理单元及基板处理装置
申请号CN201410352974.6申请日期2014-07-23
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2015-02-11公开/公告号CN104347452A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/67IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;6;7查看分类表>
申请人PSK有限公司;塞米吉尔公司申请人地址
韩国京畿道 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人PSK有限公司,塞米吉尔公司当前权利人PSK有限公司,塞米吉尔公司
发明人张健
代理机构北京信慧永光知识产权代理有限责任公司代理人曹正建;陈桂香
摘要
本发明提供半导体基板制造装置及基板处理方法,且更特定而言提供用于对半导体晶圆执行回流处理过程的装置及方法。该基板处理装置包括负载端口,容纳基板的载体设座于该负载端口上;基板处理模块,其包括用于对该基板执行回流过程的一个回流处理单元或多个回流处理单元,以及基板转移模块,其包括在该负载端口与该基板处理模块之间转移该基板的转移机器人,该基板转移模块安置于该负载端口与该基板处理模块之间。该回流处理单元包括过程腔室,该过程腔室中具有处理空间;以及排出构件,其将该过程腔室内的流体排出。

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