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一种半导体光敏感复合材料及其制备方法以及应用

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202110577465.3
  • IPC分类号:H01L31/0264;H01L31/0296;H01L31/0328;H01L31/0216
  • 申请日期:
    2021-05-26
  • 申请人:
    海南聚能科技创新研究院有限公司
著录项信息
专利名称一种半导体光敏感复合材料及其制备方法以及应用
申请号CN202110577465.3申请日期2021-05-26
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2021-09-21公开/公告号CN113421933A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L31/0264IPC分类号H;0;1;L;3;1;/;0;2;6;4;;;H;0;1;L;3;1;/;0;2;9;6;;;H;0;1;L;3;1;/;0;3;2;8;;;H;0;1;L;3;1;/;0;2;1;6查看分类表>
申请人海南聚能科技创新研究院有限公司申请人地址
海南省海口市国家高新技术产业开发区狮子岭工业园光伏北路18号研发办公楼6层 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人海南聚能科技创新研究院有限公司当前权利人海南聚能科技创新研究院有限公司
发明人林正玺;林仕伟;艾长智
代理机构北京集佳知识产权代理有限公司代理人任美玲
摘要
本发明提供了一种半导体复合材料,包括TiN纳米管阵列基底以及复合于所述基底表面的C3N4‑CdS复合材料层。本发明向TiO2上掺杂C3N4和CdS,从而加强其光催化的能力。通过测样发现TiN‑C3N4‑CdS的半导体复合材料,比传统的TiO2材料的光电响应提高了5倍以上。

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