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用于制造半导体器件的方法和半导体器件

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201510261574.9
  • IPC分类号:H01L21/768;H01L23/482
  • 申请日期:
    2015-05-21
  • 申请人:
    英飞凌科技股份有限公司
著录项信息
专利名称用于制造半导体器件的方法和半导体器件
申请号CN201510261574.9申请日期2015-05-21
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2015-11-25公开/公告号CN105097665A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/768IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;7;6;8;;;H;0;1;L;2;3;/;4;8;2查看分类表>
申请人英飞凌科技股份有限公司申请人地址
德国瑙伊比贝尔格市坎芘昂1-12号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人英飞凌科技股份有限公司当前权利人英飞凌科技股份有限公司
发明人M.巴特尔斯;H.法伊克;C.屈恩;D.奥芬贝格;A.施特尔滕波尔;H.塔迪肯;I.乌利希
代理机构中国专利代理(香港)有限公司代理人王岳;胡莉莉
摘要
本发明涉及用于制造半导体器件的方法和半导体器件。根据各种实施例的用于制造半导体器件的方法可包括:在半导体衬底的第一区中形成开口,开口具有至少一个侧壁和底部;将掺杂剂原子注入开口的至少一个侧壁和底部中;将横向邻近于第一区的半导体衬底的第二区的至少一部分配置为非晶或多晶区中的至少一个;以及在半导体衬底的第一和第二区中的至少一个之上形成互连。

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