反应腔室

发明专利有效专利

申请号：
CN202010152523.3
IPC分类号：C30B25/08;C30B25/14;C30B29/40;C30B29/48
申请日期：
2020-03-06
申请人：
北京北方华创微电子装备有限公司

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	反应腔室
申请号	CN202010152523.3	申请日期	2020-03-06
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2020-06-23	公开/公告号	CN111321463A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C30B25/08 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C30 晶体生长〔3〕 C30B 单晶生长（用超高压的，例如用于金刚石形成的入B01J 3/06）；共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层；材料的区熔精炼（金属或合金的区熔精炼入C22B）；具有一定结构的均匀多晶材料的制备（金属铸造，按同样工艺或装置的其他物质铸造入B22D；塑料的加工入B29；改变金属或合金的物理结构入C21D、C22F）；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理（用于半导体器件或元件生产的入H01L）；其所用的装置〔3〕 C30B25/00 反应气体化学反应法的单晶生长，例如化学气相沉积生长〔3〕 C30B25/02 外延层生长〔3〕 C30B25/08 反应室；其所用材料的选择〔3〕	IPC分类号	C;3;0;B;2;5;/;0;8;;;C;3;0;B;2;5;/;1;4;;;C;3;0;B;2;9;/;4;0;;;C;3;0;B;2;9;/;4;8查看分类表>
申请人	北京北方华创微电子装备有限公司	申请人地址	北京市大兴区经济技术开发区文昌大道8号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	北京北方华创微电子装备有限公司	当前权利人	北京北方华创微电子装备有限公司
发明人	徐刚
代理机构	北京国昊天诚知识产权代理有限公司	代理人	施敬勃

摘要

本发明公开一种反应腔室，包括：腔体，腔体与上盖通过绝缘部相连，且腔体与上盖形成内腔，上盖开设有与内腔连通的通孔；进气机构包括第一绝缘块、第二绝缘块、进气管和法兰盘，进气管的一端与法兰盘相连，第一绝缘块的至少部分处于通孔，且第一绝缘块背离内腔的一侧开设有容纳空间，第二绝缘块设置于容纳空间，法兰盘设置于容纳空间的开口，第二绝缘块开设有第二进气孔，进气管与第二进气孔连通，第一绝缘块开设有第一进气孔，第一进气孔的一端与第二进气孔连通，第一进气孔的另一端与内腔连通，在通孔的轴线方向上，第一进气孔的投影处于第二进气孔的投影之外。本方案解决现有的反应腔室内部容易发生意外打火的问题。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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