基板清洗装置、基板清洗方法以及基板的制造方法

发明专利无效专利

申请号：
CN200710111436.8
IPC分类号：B08B1/02;G02F1/1333;H01L21/00
申请日期：
2007-06-20
申请人：
株式会社日立高科技

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著录项信息

专利名称	基板清洗装置、基板清洗方法以及基板的制造方法
申请号	CN200710111436.8	申请日期	2007-06-20
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2008-02-27	公开/公告号	CN101130187
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	B08B1/02 ? IPC结构图谱： B 作业；运输 B0 分离；混合 B08 清洁 B08B 一般清洁；一般污垢的防除（刷子入A46；家庭或类似清洁装置入A47L；颗粒从液体或气体中分离入B01D；固体分离入B03，B07；一般对表面喷射或涂敷液体或其他流体材料入B05；用于输送机的清洗装置入B65G 45/10；对瓶子同时进行清洗、灌注和封装的入B67C 7/00；一般腐蚀或积垢的防止入C23；街道、永久性道路、海滨或陆地的清洗入E01H；专门用于游泳池或仿海滨浴场浅水池或池子的部件、零件或辅助设备清洁的入E04H 4/16；防止或清除静电荷入H05F） B08B1/00 利用工具，刷子或类似工具的清洁方法（B08B 3/12，B08B 6/00，B08B 9/00优先）〔2〕 B08B1/02 运动中工件的清洁，如在传送装置上的成卷织物或物品	IPC分类号	B;0;8;B;1;/;0;2;;;G;0;2;F;1;/;1;3;3;3;;;H;0;1;L;2;1;/;0;0查看分类表>
申请人	株式会社日立高科技	申请人地址	日本东京港区西新桥1丁目24番14号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	株式会社日立高科技	当前权利人	株式会社日立高科技
发明人	森口善弘;小笠原和义;井崎良;釜石孝生
代理机构	北京中原华和知识产权代理有限责任公司	代理人	寿宁;张华辉

摘要

本发明能够以高清洗力来均匀地清洗大型基板。上刷子(20)具有旋转轴(21)，并通过马达(22)的驱动而旋转。轴承块(23a、23b)以可旋转的方式支撑着上刷子(20)的旋转轴(21)。导向器(24a、24b)向旋转轴(21)的轴方向引导轴承块(23a、23b)。由于是一边保持上刷子(20)可向旋转轴(21)的轴方向移动一边使上刷子(20)旋转，所以即便上刷子(20)在旋转前产生弯曲，也可以在旋转过程中使上刷子(20)变位至旋转轴(21)的轴方向上，从而消除上刷子(20)的弯曲。因此，可以防止旋转轴(21)的偏向，使上刷子(20)接触于基板(1)的压力固定。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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