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基板处理装置、基板处理方法、记录介质以及软件

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200580010687.6
  • IPC分类号:H01L21/304
  • 申请日期:
    2005-03-25
  • 申请人:
    东京毅力科创株式会社
著录项信息
专利名称基板处理装置、基板处理方法、记录介质以及软件
申请号CN200580010687.6申请日期2005-03-25
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2007-03-28公开/公告号CN1938830
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/304
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IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;3;0;4查看分类表>
申请人东京毅力科创株式会社申请人地址
日本东京都 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人东京毅力科创株式会社当前权利人东京毅力科创株式会社
发明人户岛孝之;新藤尚树;矢野洋;鹤崎广太郎
代理机构中国专利代理(香港)有限公司代理人温大鹏;胡强
摘要
本发明的基板处理装置(1)具有:利用处理液处理基板的处理槽(3)、配置在处理槽(3)上方的干燥处理部(6)、和使基板W在处理槽(3)与干燥处理部(6)之间移动的移动机构(8)。在干燥处理部(6)上连接着供给处理气体的处理气体供给管线(21)、和向干燥处理部(6)供给非活性气体的非活性气体供给管线(24、25)。又,在干燥处理部(6)上连接着将从干燥处理部(6)压出的气氛气体排出的第1排气管线(26)、和强制排出前述干燥处理部(6)的气体的第2排气管线(27)。

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