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图像传感器及其制造方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200810127820.1
  • IPC分类号:H01L21/822;H01L27/146
  • 申请日期:
    2008-06-25
  • 申请人:
    东部高科股份有限公司
著录项信息
专利名称图像传感器及其制造方法
申请号CN200810127820.1申请日期2008-06-25
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2008-12-31公开/公告号CN101335239
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/822
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IPC结构图谱:
IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;8;2;2;;;H;0;1;L;2;7;/;1;4;6查看分类表>
申请人东部高科股份有限公司申请人地址
韩国首尔 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人东部高科股份有限公司当前权利人东部高科股份有限公司
发明人白寅喆;朴庆敏;李汉春;李善赞
代理机构北京博浩百睿知识产权代理有限责任公司代理人宋子良;吴淑平
摘要
本发明披露了一种图像传感器及其制造方法。该方法包括在半导体衬底的像素区上形成栅极;在栅极的一侧形成光电二极管,而在栅极的另一侧形成浮置扩散区;在半导体衬底中的像素区和边缘区上形成氧化膜,其中像素区具有栅极,光电二极管和浮置扩散区;形成光刻胶图样,该光刻胶图样具有对应于氧化膜上的栅极和浮置扩散区的开口,然后使用光刻胶图样作为掩模来蚀刻氧化膜以形成牺牲氧化层;在光刻胶图样,栅极和浮置扩散区上形成金属层;通过进行快速热处理在栅极和浮置扩散区上形成自对准多晶硅化物层;蚀刻快速热处理后残留的金属层,光刻胶图样和牺牲氧化层,以及形成层间绝缘膜并对该层间绝缘膜进行平坦化。

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