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光刻装置及器件制造方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200410038707.8
  • IPC分类号:G03F7/20
  • 申请日期:
    2004-04-02
  • 申请人:
    ASML荷兰有限公司
著录项信息
专利名称光刻装置及器件制造方法
申请号CN200410038707.8申请日期2004-04-02
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2004-12-01公开/公告号CN1550904
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人ASML荷兰有限公司申请人地址
荷兰维尔德霍芬 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人ASML荷兰有限公司当前权利人ASML荷兰有限公司
发明人H·H·M·科西;D·J·P·A·弗兰肯;N·R·科佩;E·A·F·范德帕斯;M·J·维邦特;L·A·范登威登伯格
代理机构中科专利商标代理有限责任公司代理人王波波
摘要
在EUV投射系统中,测量和控制反射器彼此之间的位置,而不是反射器相对于参考框架的位置。可以通过干涉仪或安装在反射器的刚性延伸部分的电容传感器进行相对位置的测量。

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