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对半导体器件进行晶圆级老化测试的方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200910200020.2
  • IPC分类号:G01R31/26
  • 申请日期:
    2009-12-01
  • 申请人:
    中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
著录项信息
专利名称对半导体器件进行晶圆级老化测试的方法
申请号CN200910200020.2申请日期2009-12-01
法律状态暂无申报国家中国
公开/公告日2011-06-01公开/公告号CN102081138A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G01R31/26IPC分类号G;0;1;R;3;1;/;2;6查看分类表>
申请人中芯国际集成电路制造(上海)有限公司申请人地址
上海市浦东新区张江路18号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中芯国际集成电路制造(上海)有限公司,中芯国际集成电路制造(北京)有限公司当前权利人中芯国际集成电路制造(上海)有限公司,中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
发明人张晓东;郑勇;刘晓虎;赵步青
代理机构北京德琦知识产权代理有限公司代理人牛峥;王丽琴
摘要
本发明公开了一种对半导体器件进行晶圆级老化测试的方法,该方法包括:将测试探针接触晶圆上的半导体器件的压焊建立电学连接并进行初始测试;按照设置的老化测试规则通过测试探针对晶圆上的各个半导体器件施加电压应力,分别进行监控测试;判断测得的晶圆上的各个半导体器件的相关的电学参数是否符合所设置的对应老化判断标准,确定符合的晶圆为好且老化等级为判断标准;确定不符合的晶圆失效。本发明提供的方法降低了半导体器件的测试成本及提高半导体器件的测试效率。

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