涂片染色装置、制备装置、处理系统及染色条件决定方法

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专利名称	涂片染色装置、制备装置、处理系统及染色条件决定方法
申请号	CN201110058744.5	申请日期	2011-03-11
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G01N1/31 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G01 测量；测试 G01N （除免疫测定法以外包括酶或微生物的测量或试验入C12M，C12Q） G01N1/00 取样；制备测试用的样品（用于自动分析的材料处理入G01N 35/00） G01N1/28 测试用样品的制备（将样品安装在显微镜载片上入G02B 21/34；电子显微镜中支承被分析的物品或材料的装置入H01J 37/20） G01N1/30 着色；浸渍 G01N1/31 其所用设备〔6〕	IPC分类号	G;0;1;N;1;/;3;1查看分类表>
申请人	暂无	申请人地址	日本兵库县神户市中央区脇浜海岸通1丁目5番1号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	希森美康株式会社	当前权利人	希森美康株式会社
发明人	山田和宏;山崎充生
代理机构	北京市安伦律师事务所	代理人	刘良勇

摘要

本发明提供一种涂片染色装置，包括用染色液对涂片进行染色的染色部件；执行以下操作的控制部件接受所述染色部件按照第一染色条件染色涂片的染色状态的相关信息，根据所述信息和目标值决定第二染色条件。本发明还提供一种涂片制备装置，一种涂片处理系统，以及一种染色条件的决定方法。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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