掩模版、滤光板的制造方法、液晶显示装置

发明专利无效专利

申请号：
CN201210518164.4
IPC分类号：G03F1/26;G02F1/1339
申请日期：
2012-12-05
申请人：
上海广电富士光电材料有限公司

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法律信息

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著录项信息

专利名称	掩模版、滤光板的制造方法、液晶显示装置
申请号	CN201210518164.4	申请日期	2012-12-05
法律状态	撤回	申报国家	中国
公开/公告日	2014-06-11	公开/公告号	CN103852969A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F1/26 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F1/16 （转入G03F 1/00-G03F 1/86） G03F1/26 相移掩膜〔PSM〕；PSM空白；其制备〔2012.01〕	IPC分类号	G;0;3;F;1;/;2;6;;;G;0;2;F;1;/;1;3;3;9查看分类表>
申请人	上海广电富士光电材料有限公司	申请人地址	上海市闵行区华宁路3306弄160号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	上海仪电显示材料有限公司	当前权利人	上海仪电显示材料有限公司
发明人	郁侃;金子若彦;张莉
代理机构	北京集佳知识产权代理有限公司	代理人	骆苏华

摘要

一种掩模版、滤光板的制造方法、液晶显示装置，掩模版用于制造滤光板上的间隔柱，包括：基底；位于所述基底上的掩膜层，所述掩膜层具有多个第一图案区域和多个第二图案区域，所述第一图案区域用于形成主间隔柱，所述第二图案区域用于形成副间隔柱，所述主间隔柱的高度大于所述副间隔柱的高度；所述第一图案区域仅有唯一的第一开口，每个第二图案区域包括多个第二开口、相邻两个第二开口之间的遮光部，所述第二开口的边长或线幅范围为1.5μm～3.5μm，遮光部的宽度范围为1.0μm～3.0μm。本技术方案改善小型化副间隔柱的剥离现象。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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